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本 クラスターイオンビーム基礎と応用 次世代ナノ加工プロセス技術

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本-クラスターイオンビーム基礎と応用 次世代ナノ加工プロセス技術
著者: 山田公 (編著)
定価 ¥3,456(税込)
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商品情報

出版社名
日刊工業新聞社
発行年月
2006年 10月
ISBNコード
9784526057656
版型
--
ページ数
223P
平均評価
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山田公 OFF

内容紹介

本書は、イオンビーム技術の発展を、その技術的背景もあわせて示しながら、イオンビーム技術に初めて接する初心者にもわかりやすく説明しています。

※本データはこの商品が発売された時点の情報です。

目次

1 イオンビーム技術の概要(イオンの発見/イオンビーム技術の誕生 ほか)/2 ガスクラスタービームの発生(ガスクラスタービームの発生の原理/ガスクラスターイオンビーム装置 ほか)/3 クラスターイオンビームと固体表面相互作用(クラスターイオンの個体表面衝突現象/ガスクラスターイオンの照射効果の特長 ほか)/4 ナノ加工プロセス応用(半導体デバイス応用/磁性・誘電体デバイス応用 ほか)/5 産業用クラスターイオンビーム装置(ガスクラスターイオンビーム装置/デカボランイオン注入装置)

著者情報

山田 公
京都大学名誉教授。兵庫県立大学高度産業科学技術研究所客員教授(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)

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